純水設(shè)備系統(tǒng)故障診斷及化學清洗一覽表
純水設(shè)備系統(tǒng)故障診斷及化學清洗一覽表
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故障 |
位置 |
原因 |
驗證 |
處理方法 |
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濃縮水 |
純化水 流量 |
壓力降 |
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正常到增多 |
減少 |
正常到增多 |
主要在第一段 |
金屬氧化物污染了膜 |
分析清洗液中的金屬氧化物 |
改進預處理，以去除金屬氧化物，用酸性清洗液清洗 |
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正常到增多 |
減少 |
增加 |
主要在第一段 |
膠體污染 |
測試原水中的SDI |
優(yōu)選預處理，以去除膠體物質(zhì)，用高PH值的陰離子清洗液清洗膜 |
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增大 |
減少 |
增加 |
主要在最后一段 |
結(jié)垢（SiO2，CaSO4，BaSO4CaCO3） |
分析清洗液中的金屬離子，檢查去除液中LSI指數(shù)及CaSO4，BaSO4及SiO2的溶解度 |
增加酸性添加劑和防垢劑；減少回收率，用酸性清洗液清洗 |
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正常到增多 |
減少 |
正常到增多 |
任何一段 |
生物污染 |
測試純水及去除液中細菌數(shù)量 |
增加亞硫酸氫鈉；降低PH值并連續(xù)加入亞硫酸氫鈉；甲醛殺菌；加氯除氯，更換預濾芯 |
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減少或輕微增加 |
減少 |
正常 |
所有段中 |
有機物污染 |
破壞性試驗 |
加活性碳或其它預處理，用高PH值清洗液清洗膜 |
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增加 |
增加 |
減少 |
第一級最嚴重 |
游離氯氧化 |
分析原水中的氯，做膜的破壞性試驗 |
檢查加氯設(shè)備及除氯系統(tǒng) |
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增加 |
增加 |
減少 |
第一級最嚴重 |
晶體物質(zhì)對膜的磨損 |
對原水進行顯微鏡固體分析，做破壞性試驗 |
改進預處理；檢查所有過濾器 |
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增加 |
正常到增多 |
減少 |
任何一段 |
O型圈泄漏、密封泄漏 |
測試 |
更換O型圈，修理或更換膜 |
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增加 |
正常到增多 |
減少 |
所有段中 |
回收率過高 |
按設(shè)計要求，檢查流量和壓力 |
減少回收率，檢查軟化器 |
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